MARORA 是國際電氣的單片式處理（膜質改善）設備。適合次世代 DRAM 與邏輯的閘極絕緣層形成，以及快閃記憶體的絕緣層形成。
以獨家電漿生成方式（MMT：Modified Magnetron Typed），有效率地產生約 1eV 低電子溫度的電漿，實現無電漿損傷的處理。也提升了基板表面的電漿均勻性。
生產力為既有機型的最高 2 倍，並搭載可在大範圍內控制溫度的高溫加熱器。除電漿氧化與電漿氮化外，也能進行不氧化金屬、僅選擇性氧化矽的「選擇性氧化」。
MARORA的特點與規格
國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC）・RTP（快速熱處理）設備
以獨家 MMT 方式產生約 1eV 低電子溫度電漿的單片式處理設備。用於閘極絕緣層的電漿氮化・氧化。
產品概要
主要規格
| 方式 | 單片式電漿處理（MMT 方式・約 1eV） |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
| 主要用途 | 電漿氮化・電漿氧化・選擇性氧化 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
MMT 方式低電子溫度電漿（約 1eV）
無電漿損傷
生產力為既有機型的最高 2 倍
支援選擇性氧化
主要用途
- DRAM・邏輯的閘極絕緣層
- 快閃記憶體的絕緣層
製造商與在台據點
在台據點
- 亞太國際電機（Kokusai Electric Asia Pacific）（新竹）：1996 年 9 月成立的台灣子公司