Advanced TSURUGI 剱是國際電氣的小批次成膜設備。面向結構持續微縮與複雜化的次世代元件,是兼顧高難度成膜與高生產力的熱製程設備。
採用可對三維堆疊元件實現高難度成膜的新反應爐。以容積最小化並最佳化的晶圓反應爐與大排氣量,降低負載效應並提高膜厚均勻性,同時提升反應氣體的置換效率以縮短成膜時間。
具備低發塵・高速的晶圓傳送系統,在高生產力之外,占地面積也比以往減少 10%。
面向三維堆疊元件採用新反應爐的國際電氣小批次成膜設備。占地面積比以往減少 10%。
Advanced TSURUGI 剱是國際電氣的小批次成膜設備。面向結構持續微縮與複雜化的次世代元件,是兼顧高難度成膜與高生產力的熱製程設備。
採用可對三維堆疊元件實現高難度成膜的新反應爐。以容積最小化並最佳化的晶圓反應爐與大排氣量,降低負載效應並提高膜厚均勻性,同時提升反應氣體的置換效率以縮短成膜時間。
具備低發塵・高速的晶圓傳送系統,在高生產力之外,占地面積也比以往減少 10%。
| 方式 | 小批次・熱製程(薄膜形成) |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
| 特點 | 容積最小化的反應爐・大排氣量・節省占地面積(比以往 −10%) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。