QUIXACE-II 是國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC）適用 300mm 晶圓的大批次式熱製程設備。集結該公司核心技術的溫度控制、自動傳送、真空・氣體置換、冷卻與成膜各項技術，大幅縮短循環時間，實現高產能。
作為薄膜沉積製程設備，用於 CVD 膜・氧化膜的形成；作為處理（膜質改善）設備，用於氧化・擴散・低溫／高溫退火。批次處理能力與該公司產品相比最多為 1.25 倍。
特點是可在深溝槽形狀上均勻成膜，以及在低溫下高精度・高品質成膜，並可選配健康檢查功能。同屬大批次系列的還有最多 1.75 倍的 AdvancedAce-II，以及具備真空負載鎖定室、適用 EPI 的 QUIXACE-LV。