TSURUGI-C²（剱）是國際電氣支援 300mm 的小批次式成膜設備。定位為兼顧次世代元件所需高難度成膜與高生產力的熱製程設備。
採用容積最小化的反應爐，抑制負載效應並提高膜厚均勻性。配備低發塵、高速的晶圓傳送系統，實現高生產力與節省占地面積。
國際電氣將循環供應多種氣體、以原子層級成膜的手法稱為「ALD」，並與 LP-CVD・氧化・退火・擴散一起推出批次式成膜設備。小批次系列另有高階機種 Advanced TSURUGI 與最高階機型 Advanced TSURUGI Plus-Ⅲ，可對應三維堆疊元件的高難度成膜。