RTP（快速熱處理）設備是什麼

RTP（Rapid Thermal Processing：快速熱處理）設備是使用鹵素燈或閃光燈，在數秒～數十秒內將半導體晶圓快速加熱至高溫（400～1200°C）並快速冷卻的單片式熱處理設備。用於離子佈植後的雜質活化・晶體缺陷修復、金屬矽化物形成、高品質閘極氧化層形成等，與批次擴散爐相比可大幅降低熱預算（Thermal Budget）。應用材料的 Radiance 系列是代表性產品。

重點整理

以秒～分鐘等級的超短時間加熱，將熱預算（Thermal Budget）降到最低
對離子佈植後的雜質活化・晶體缺陷修復不可或缺
單片式處理，溫度均勻性與再現性優異
朝閃光燈 RTP・雷射退火發展，進一步降低熱預算
應用材料・SCREEN・Mattson 為主要廠商

常見問題

什麼是 RTP（快速熱處理）設備？
RTP 設備是使用鹵素燈等，在數秒～數十秒的短時間內將晶圓高溫加熱並快速冷卻的單片式熱處理設備。廣泛用於離子佈植後的雜質活化、金屬矽化物形成、薄閘極氧化層形成。短時間處理可抑制熱擴散造成的雜質擴展。
RTP 與批次式擴散爐有什麼不同？
RTP 是每次處理 1 片的單片式，加熱時間為數秒～數分鐘。批次爐同時處理數十～百片，生產性較高，但處理時間也較長、熱預算較大。在先進製程中，為降低熱預算，會大量使用 RTP 或更高速的閃光退火。
RTP 設備的主要廠商有哪些？
應用材料（Applied Materials，Radiance Plus 等）在 RTP 設備市場擁有最高市占率。SCREEN（原大日本網屏製造）的熱處理設備與 Mattson Technology（德國，中國 Mattson 體系）也是代表性廠商。

相關用語

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RTP（快速熱處理）設備的主要機型（8）

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