AdvancedAce-II 是國際電氣支援 300mm 晶圓的大批次式熱製程設備。集結溫度控制、自動搬送、真空・氣體置換、冷卻、沉積等該公司核心技術，大幅縮短週期時間，實現高產出。
作為沉積製程設備，用於以 LP-CVD 形成 CVD 膜・氧化膜；作為處理設備，用於氧化・擴散・低溫／高溫退火。批次處理能力為該公司既有機種的最高 1.75 倍，在大批次系列中具有最高的生產力。
特點為在深溝槽形狀上形成均勻薄膜，以及在低溫下進行高精度・高品質的沉積。另備有健康檢查功能選配。
AdvancedAce-II的特點與規格
國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC）・LPCVD（低壓 CVD）
國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC）的大批次立式熱處理設備。集結溫度控制・搬送・真空／氣體置換等要素技術，縮短週期時間。
產品概要
主要規格
| 方式 | 大批次立式爐 |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
| 處理 | CVD・氧化・擴散・退火 |
| 主要用途 | 量產線的熱 CVD・熱處理 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
最高 1.75 倍的批次處理（與該公司既有機種相比）
在深溝槽形狀上形成均勻薄膜
低溫下高精度・高品質沉積
健康檢查功能（選配）
主要用途
- 以 LP-CVD 形成 CVD 膜・氧化膜
- 氧化・擴散・退火
製造商與在台據點
在台據點
- 亞太國際電機（Kokusai Electric Asia Pacific）（新竹）：1996 年 9 月成立的台灣子公司