Atlas Vとは
Atlas V は、Onto Innovation の OCD・薄膜計測装置です。量産向けに設計され、FinFET と GAA のロジック、DRAM、3D NAND デバイスのプロセス制御を可能にします。
最先端の光学設計と、独自の Ai Diffract モデリングエンジンを組み合わせています。光学系は、DUV の 4×4 ミュラー行列分光エリプソメトリーと、DUV の偏光垂直入射反射計（NIOCD）の2チャンネル構成で、両者を合わせた豊富な情報で OCD 解析を高精度・高スループットに行います。
CD-SEM などでは見えない埋もれた構造を含む、最も重要で難しい工程の計測を想定しています。GAA ロジックデバイスの個々のナノワイヤの寸法を測れる点が独自の能力で、先端デバイスのプロセス制御を可能にする技術です。2022年の Best of West 賞を受賞しています。
主な特長
- •DUV 4×4 ミュラー行列 SE＋偏光垂直入射反射計の2チャンネル
- •Ai Diffract モデリングエンジン
- •埋もれた構造・GAA のナノワイヤ寸法を計測
主な仕様
| 測定方式 | DUV 4×4 ミュラー行列 SE＋偏光垂直入射反射率 |
|---|---|
| 測定項目 | CD・埋もれ構造・GAA のナノワイヤ個別寸法 |
| 関連機種 | Atlas G6（次世代機） |
| 主要用途 | GAA・3D NAND・DRAM の工程管理 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLASpectraShape™ 12k | Onto InnovationAtlas® V | ノヴァ・メジャリング・インスツルメンツ（Nova）Nova PRISM |
|---|---|---|---|
| 測定方式 | 分光エリプソメトリー＋反射率（多入射角・偏光） | DUV 4×4 ミュラー行列 SE＋偏光垂直入射反射率 | 分光干渉＋分光反射＋分光エリプソメトリー |
| 測定項目 | CD・メタルゲートリセス・側壁角・レジスト高さ・ピッチウォーキング | CD・埋もれ構造・GAA のナノワイヤ個別寸法 | CD・形状（弱い感度のパラメータを含む） |
| 主要用途 | 先端ロジック・メモリの寸法管理 | GAA・3D NAND・DRAM の工程管理 | 成膜・エッチング工程のインライン管理 |
| 関連機種 | SpectraShape 11k／10K | Atlas G6（次世代機） | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •リソ・エッチ・CVD・CMP 工程の OCD
- •局所ばらつき・非対称性・膜・応力と反りの計測
掲載カテゴリ
Atlas Vは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Onto Innovation
Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。
光学式寸法測定装置（OCD）のほかの製品
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06