Echo 是 Onto Innovation 採用皮秒超音波的量測設備,可在產品晶圓上線上精確進行金屬膜厚量測、離子佈植監控與熱傳導率評估。
這是一款線上綜合金屬膜量測設備,可量測先進邏輯、記憶體、先進封裝與特殊元件的單層・多層金屬膜。以新的光學設計擴大膜厚量測的動態範圍,1 台即可量測 50Å 至 35µm。也可擴展至高深寬比的先進 3D NAND 結構量測。
透過 EASy 軟體,可開發用於建模複雜多層堆疊的獨家演算法。除金屬膜量測外,功能也擴展到材料評估。
以皮秒超音波在產品晶圓上線上量測金屬膜厚、佈植狀態與熱傳導率的量測設備。
Echo 是 Onto Innovation 採用皮秒超音波的量測設備,可在產品晶圓上線上精確進行金屬膜厚量測、離子佈植監控與熱傳導率評估。
這是一款線上綜合金屬膜量測設備,可量測先進邏輯、記憶體、先進封裝與特殊元件的單層・多層金屬膜。以新的光學設計擴大膜厚量測的動態範圍,1 台即可量測 50Å 至 35µm。也可擴展至高深寬比的先進 3D NAND 結構量測。
透過 EASy 軟體,可開發用於建模複雜多層堆疊的獨家演算法。除金屬膜量測外,功能也擴展到材料評估。
| 方式 | 皮秒超音波量測 |
|---|---|
| 膜厚範圍 | 50Å~35µm |
| 主要用途 | 金屬膜厚・佈植監控・熱傳導率評估 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
Onto Innovation(總部:美國)