最後更新:2026年10月23日膜厚量測設備

Echo的特點與規格

Onto Innovation・膜厚量測設備

以皮秒超音波在產品晶圓上線上量測金屬膜厚、佈植狀態與熱傳導率的量測設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Echo 是 Onto Innovation 採用皮秒超音波的量測設備,可在產品晶圓上線上精確進行金屬膜厚量測、離子佈植監控與熱傳導率評估。

這是一款線上綜合金屬膜量測設備,可量測先進邏輯、記憶體、先進封裝與特殊元件的單層・多層金屬膜。以新的光學設計擴大膜厚量測的動態範圍,1 台即可量測 50Å 至 35µm。也可擴展至高深寬比的先進 3D NAND 結構量測。

透過 EASy 軟體,可開發用於建模複雜多層堆疊的獨家演算法。除金屬膜量測外,功能也擴展到材料評估。

主要規格

方式皮秒超音波量測
膜厚範圍50Å~35µm
主要用途金屬膜厚・佈植監控・熱傳導率評估

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

皮秒超音波
50Å~35µm 的膜厚範圍
支援 3D NAND 高深寬比結構

主要用途

  • 金屬膜厚量測
  • 佈植監控・熱傳導率評估

製造商

Onto Innovation(總部:美國)

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資料來源

  1. Onto Innovation 官方產品頁面:Onto Innovation Echo