Iris G2 是 Onto Innovation 的光學式薄膜量測設備。從先進節點到成熟・特殊元件，可同時量測一般膜層與關鍵膜層，支援電晶體的高速化、低功耗化與可靠度提升。
隨著元件日益複雜，膜層更薄且更均勻，因此需要穩定的一體化（all-in-one）薄膜量測。Iris G2 透過管理閘極膜的品質與有效膜厚，支援元件的微縮與性能提升。
針對 10～50Å 的極薄多層膜，一般膜層採用 DUV 光譜橢圓偏光量測，關鍵膜層則結合獨家的雷射橢圓偏光量測技術。1 個平台即可進行 2D／3D 的 OCD 量測，以及晶圓翹曲・薄膜應力量測，因此可簡化機群管理並抑制整體設備投資。