当サイトでの位置づけ
Semiraiの真空・成膜カテゴリでは、スパッタ・CVD・蒸着・エッチング装置をファブレスから量産まで幅広く提供する国産真空技術の総合メーカーとして参照されます。
企業の強み
真空ポンプからプロセス装置まで一貫した垂直統合
スパッタリング装置で国内トップクラス
FPD・太陽電池向け大面積成膜技術
主要製品・ソリューション
PVD装置
- •スパッタリングシステム
- •蒸着装置
CVD装置
- •プラズマCVD
- •熱CVD
真空ポンプ
- •ターボ分子ポンプ
- •ドライポンプ
ULVAC（アルバック）の製品
ENTRON-EXX（PVD装置）CME-200E（PE-CVD）（CVD装置）ENTRON-EX W300（PVD装置）ei-5（真空蒸着装置）HELIOT 900 シリーズ（リークディテクタ）Luminous NA シリーズ（アッシング装置（レジスト灰化））CCMT-D シリーズ（真空計・圧力コントローラ）H83／H84（拡散炉）（拡散炉）IMX-3500（イオン注入装置）（中電流イオン注入装置）IH（高エネルギーイオン注入装置）（高エネルギーイオン注入装置）SOPHI（中電流イオン注入装置）（中電流イオン注入装置）SOPHI-400（高エネルギーイオン注入装置）（高エネルギーイオン注入装置）RISE-300（自然酸化膜除去装置）（ドライ洗浄装置）NLD-570（ドライエッチング装置）（MEMS）NLD-5700（ドライエッチング装置）（MEMS）NE-550EX（ドライエッチング装置）（ドライエッチング装置）uGmni-200E（ドライエッチング装置）（ドライエッチング装置）ei-5／EVD-600LP（蒸着装置）（真空蒸着装置）CC-200（PE-CVD 装置）（PECVD（プラズマCVD））CME（PE-CVD 装置）（PECVD（プラズマCVD））uGmni-200C（PE-CVD 装置）（PECVD（プラズマCVD））CS（スパッタリング装置）（スパッタリング装置）SEGul-200（GaN スパッタエピ装置）（化合物半導体）SRH（スパッタリング装置）（スパッタリング装置）SME（スパッタリング装置）（スパッタリング装置）
関連装置カテゴリ
PVD装置（スパッタ）
PVD装置（Physical Vapor Deposition：物理気相成長）は、真空中でターゲット材料を蒸発・スパッタリングしてウェハ表面に堆積させる成膜装置です。
メーカー 7 社CVD装置CVD装置（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長）は、原料ガスの化学反応によりウェハ表面に高品質な薄膜を形成する成膜装置です。
メーカー 11 社成膜装置成膜装置は、ウェハ表面に絶縁膜、導電膜、半導体膜などの薄膜を数百ナノメートルから原子レベルの厚さで形成する前工程の重要装置です。
メーカー 9 社真空ポンプ真空ポンプは、成膜（CVD/PVD/ALD）・エッチング・イオン注入など、真空環境を必要とする製造装置のチャンバー内を排気する基幹サブシステムです。
メーカー 8 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ULVAC（アルバック）を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
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