Milliosとは
Millios は、Mattson Technology のミリ秒アニールシステムです。独自の水冷壁アルゴンアークランプ技術を使い、ウェーハ表面をミリ秒単位で加熱します。ウェーハの表面と裏面の温度をリアルタイムで計測・制御します。
動作温度は 250〜1,050°C で、最大 600°C の温度ジャンプが可能です。0.2〜0.9 の幅広いウェーハ放射率に対応し、ミリ秒パルスの時間を調整でき、スパイクアニールとフラッシュを組み合わせた処理にも対応します。ミリ秒単位の温度制御と最適化した搬送で、ウェーハの応力を管理し割れを防ぎます。
メーカーは、極浅接合の形成、High-k 材料のパッシベーション、金属シリサイド形成に最適な技術ソリューションとしています。トランジスタ製造のソース／ドレインアニール、HALO アニール、ニッケル・チタンシリサイド形成や、次世代 DRAM の製造に使われます。
主な特長
- •水冷壁アルゴンアークランプによるミリ秒アニール
- •表面・裏面温度のリアルタイム計測・制御
- •250〜1,050°C、最大 600°C の温度ジャンプ
- •スパイク＋フラッシュの組み合わせ処理
主な仕様
| 加熱方式 | アークランプによるフラッシュ（ランプ式） |
|---|---|
| 処理時間 | 実効 1 ～ 3 ミリ秒 |
| 主要用途 | 先端シリサイド・極浅接合の形成 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsVantage® Astra™ DSA | SCREENホールディングスLA-3100（フラッシュランプアニール装置） | Mattson TechnologyMillios™ |
|---|---|---|---|
| 加熱方式 | ダイオードレーザー走査（ダイナミックサーフェスアニール） | キセノンフラッシュランプ（ミリ秒） | アークランプによるフラッシュ（ランプ式） |
| 主要用途 | ニッケルシリサイドなどコンタクト層の形成 | ソース／ドレインの不純物活性化 | 先端シリサイド・極浅接合の形成 |
| 処理時間 | 1 ミリ秒未満 | — | 実効 1 ～ 3 ミリ秒 |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| 雰囲気 | — | 枚葉処理・低酸素雰囲気 | — |
|---|---|---|---|
| 特徴 | — | 加熱照射時のウェーハ温度を実測 | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •極浅接合・ソース／ドレイン・HALO アニール
- •High-k アニール、Ni／Ti シリサイド形成
- •次世代 DRAM
掲載カテゴリ
Milliosは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Mattson Technology
急速熱処理（RTP）・ドライストリップ（プラズマアッシャー）の専業装置メーカー。先端ロジック・メモリのゲート形成・レジスト除去工程を支える。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06