LA-3100（フラッシュランプアニール装置）
キセノンフラッシュランプの数ミリ秒の照射でウェーハ表面を昇降温する SCREEN のミリ秒アニール装置。低サーマルバジェットで不純物を高活性化する。
LA-3100とは
LA-3100 は、SCREEN セミコンダクターソリューションズのフラッシュランプアニール装置です。瞬間的に発光するキセノンフラッシュランプから数ミリ秒の光を照射し、ウェーハの表面温度を高速に上げ下げします。
低いサーマルバジェット（熱履歴）で熱処理できるため、ソース・ドレインに注入した不純物を高く活性化しながら、その濃度プロファイルを精密に制御できます。最先端デバイスの特性改善に大きく貢献する装置と位置づけられています。
ウェーハを枚葉で処理するため、厳しく管理された低酸素雰囲気でアニールできます。ミリ秒単位で制御した熱処理をウェーハ全面に行いながら、加熱照射中のウェーハ温度を実測する機能も搭載しており、研究開発段階から温度に着目した物理現象の把握・解明を容易にします。
主な特長
- •キセノンフラッシュランプによるミリ秒アニール
- •低サーマルバジェットで高い不純物活性化
- •枚葉処理・低酸素雰囲気
- •加熱照射時のウェーハ温度を実測
主な仕様
| 加熱方式 | キセノンフラッシュランプ（ミリ秒） |
|---|---|
| 雰囲気 | 枚葉処理・低酸素雰囲気 |
| 特徴 | 加熱照射時のウェーハ温度を実測 |
| 主要用途 | ソース／ドレインの不純物活性化 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsVantage® Astra™ DSA | SCREENホールディングスLA-3100（フラッシュランプアニール装置） | Mattson TechnologyMillios™ |
|---|---|---|---|
| 加熱方式 | ダイオードレーザー走査（ダイナミックサーフェスアニール） | キセノンフラッシュランプ（ミリ秒） | アークランプによるフラッシュ（ランプ式） |
| 主要用途 | ニッケルシリサイドなどコンタクト層の形成 | ソース／ドレインの不純物活性化 | 先端シリサイド・極浅接合の形成 |
| 処理時間 | 1 ミリ秒未満 | — | 実効 1 ～ 3 ミリ秒 |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| 雰囲気 | — | 枚葉処理・低酸素雰囲気 | — |
|---|---|---|---|
| 特徴 | — | 加熱照射時のウェーハ温度を実測 | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ソース／ドレインの不純物活性化
- •先端デバイスの極浅接合形成
掲載カテゴリ
LA-3100は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
SCREENホールディングス
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06