Vantage® Astra™ DSA
Applied Materials 初のレーザーアニール装置。ダイオードレーザーを走査し、表面の数層だけを 1 ミリ秒未満で 1,000 ℃超に加熱する。
Vantage Astra DSAとは
Vantage Astra DSA（Dynamic Surface Anneal）は、Applied Materials 初のレーザー式アニール装置です。継続的な微細化に欠かせない高度なシリサイド化を可能にし、先端 finFET のコンタクト抵抗の低減を実現してきました。RTP 市場での実績を生かし、同社のアニール製品をミリ秒アニールの領域に広げた製品です。
レーザーはウェーハ表面の数原子層を 1 ミリ秒未満で 1,000°C 超まで加熱します。昇温速度は毎秒 100 万°C に達します。100°C という低い予熱状態から瞬時に超高温まで上げ、同様に急速に冷やすことで、リーク電流や歩留まり低下の原因となるソース／ドレイン欠陥の形成を大きく抑えます。
生産性、コンパクトさ、信頼性を重視して設計され、Vantage プラットフォームには Astra チャンバー 2 基、または Astra 1 基と Radiance Plus や RadOx などの RTP チャンバーを組み合わせたハイブリッド構成を選べます。
主な特長
- •レーザーで表面を 1ms 未満に 1,000°C 超へ（毎秒 100 万°C）
- •低い予熱温度から急速昇降温
- •Astra 2 基、または RTP チャンバーとのハイブリッド構成
主な仕様
| 加熱方式 | ダイオードレーザー走査（ダイナミックサーフェスアニール） |
|---|---|
| 処理時間 | 1 ミリ秒未満 |
| 主要用途 | ニッケルシリサイドなどコンタクト層の形成 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsVantage® Astra™ DSA | SCREENホールディングスLA-3100（フラッシュランプアニール装置） | Mattson TechnologyMillios™ |
|---|---|---|---|
| 加熱方式 | ダイオードレーザー走査（ダイナミックサーフェスアニール） | キセノンフラッシュランプ（ミリ秒） | アークランプによるフラッシュ（ランプ式） |
| 主要用途 | ニッケルシリサイドなどコンタクト層の形成 | ソース／ドレインの不純物活性化 | 先端シリサイド・極浅接合の形成 |
| 処理時間 | 1 ミリ秒未満 | — | 実効 1 ～ 3 ミリ秒 |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| 雰囲気 | — | 枚葉処理・低酸素雰囲気 | — |
|---|---|---|---|
| 特徴 | — | 加熱照射時のウェーハ温度を実測 | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •先端 finFET のシリサイド化・コンタクト抵抗の低減
- •ソース／ドレイン欠陥の抑制
掲載カテゴリ
Vantage Astra DSAは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。