異物・汚染分析装置メーカー5社
異物・汚染分析装置は、検査装置が見つけた異物やウェハ表面の汚染について、元素組成と由来を特定する装置群です。SEM-EDXで個々のパーティクルの元素を、TXRF（全反射蛍光X線）でウェハ表面の金属汚染を高感度に、ICP-MSで薬液や気相回収液中の微量金属を定量します。異物の組成が判れば、配管材・部品材質・薬液など発生源の候補を絞り込めるため、対策を打つまでの時間を大幅に短縮できます。
主要特徴
メーカー
5社の主要メーカー
アルバックと米PHIの合弁による表面分析装置メーカー。XPS（ESCA）、TOF-SIMS、走査型オージェ電子分光装置などを供給し、汚染元素の同定や薄膜の深さ方向分析に使われる。
- •XPS・SIMS・オージェを揃えた表面分析ラインナップ
- •深さ方向の元素分布分析に対応
電子顕微鏡・電子線描画装置・分析機器の総合メーカー。半導体分野ではマスク描画用EB装置・電子線露光装置、研究用TEM/SEMを提供。
- •電子線描画装置（JBX シリーズ）で研究・試作向け市場を牽引
- •TEM/SEMなど電子顕微鏡で世界トップシェアを持つ
分析・計測機器の国内大手メーカー。質量分析装置・表面分析装置・X線分析装置を中心に、半導体材料評価から医療機器まで幅広い分析技術を展開する。
- •分析・計測機器で国内トップクラス
- •質量分析・表面分析技術に強み
世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。
- •CD-SEM（測長SEM）で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
- •2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供
分析・計測機器の国内大手メーカー。半導体製造向けにはガス分析計・パーティクルカウンタ・分光エリプソメータなど、プロセス管理に不可欠な計測機器を展開する。
- •分析・計測機器で国内大手
- •半導体プロセス向けガス分析に強み
関連カテゴリ
CD-SEM（Critical Dimension Scanning Electron Microscope）は、ナノメートル精度でリソグラフィ・エッチング後のパターン線幅（CD）を非破壊計測する装置です。
メーカー 3 社イオン注入量測定装置イオン注入量測定装置は、イオン注入工程で基板へ打ち込まれたドーパント量（ドーズ量）と面内均一性を検証する計測装置です。
メーカー 2 社エリプソメータエリプソメータは、試料表面で反射した光の偏光状態の変化（振幅比Ψと位相差Δ）を測定し、薄膜の膜厚と光学定数（屈折率n・消衰係数k）を非接触で求める計測装置です。
メーカー 3 社膜組成分析装置（XRF/FTIR）膜組成分析装置は、成膜した薄膜の組成比・膜厚・不純物濃度を非破壊で評価する装置群です。
メーカー 4 社平坦度・ウェハ厚測定装置平坦度・ウェハ厚測定装置は、ウェハの厚さ・TTV（厚さばらつき）・反り（Warp／Bow）・ナノトポグラフィといった形状パラメータを測定する装置です。
メーカー 3 社ライフタイム測定装置ライフタイム測定装置は、シリコン基板中で生成された少数キャリアが再結合して消滅するまでの平均時間（キャリアライフタイム）を測定する装置です。
メーカー 2 社光学式寸法測定装置（OCD）光学式寸法測定装置（OCD／スキャトロメトリ）は、周期パターンに光を照射して得られる反射スペクトルを、光学モデルによる理論スペクトルと照合し、線幅・高さ・側壁角などの断面形状を非破壊で求める計測装置です。
メーカー 3 社オーバーレイ計測装置オーバーレイ計測装置は、多層リソグラフィ工程において前のパターン層と現在の露光層の位置ずれ（オーバーレイ誤差）を光学的に高速・精密計測する装置です。
メーカー 3 社シート抵抗測定装置シート抵抗測定装置は、拡散層や金属薄膜の単位面積あたりの抵抗（Ω/sq）を測定し、ドーピング濃度や膜厚の面内均一性を評価する装置です。
メーカー 3 社段差・表面粗さ測定装置段差・表面粗さ測定装置は、薄膜の段差量や表面のミクロな凹凸を測定する装置です。
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