ECR電漿（Electron Cyclotron Resonance Plasma：電子迴旋共振電漿）是使電子在磁場中旋轉的週期，與外加微波的週期一致（共振），有效率地將微波能量傳給電子所產生的高密度電漿。電子在磁場中會以固定頻率（迴旋頻率）繞著磁力線旋轉，使用一般常用的2.45GHz微波時，會在磁場強度約875高斯處產生共振。
ECR電漿的特點是即使在低壓下也能產生高密度電漿。由於共振能有效率地加速電子，即使在氣體稀薄（壓力低）的條件下也能使氣體電離，離子密度因此提高。壓力低時，離子在途中不易與氣體碰撞，能直線抵達晶圓，因此適合側壁垂直的非等向性蝕刻。此外，產生電漿的微波，與決定照射到晶圓的離子能量的晶圓側射頻電壓可以分別控制，因此能獨立調整蝕刻速率與損傷。
ECR電漿是在日本推進實用化的技術，日立高新技術的微波ECR式蝕刻設備，一直被用於閘極與金屬等導體的蝕刻。在薄膜沉積方面，也應用於在低溫下形成緻密薄膜的ECR-CVD。同樣能產生高密度電漿的方式，還有利用線圈感應電場的ICP（感應耦合電漿），與以平行板電極產生的CCP（電容耦合電漿）一起，作為蝕刻設備電漿的代表性方式相互比較。