MASK MVM-SEM® E3650

E3600 シリーズのフォトマスク用多次元観察・測長 SEM。前機種 E3640 から測定スループットを 2 倍にした。

MASK MVM-SEM E3650とは

MASK MVM-SEM E3650 は、アドバンテストのフォトマスク用 CD-SEM（寸法測定装置）です。独自の電子ビーム走査技術で、フォトマスク上のパターン寸法を高い精度と安定性で測定します。

対象は sub-10nm ノードのデバイス用フォトマスク、EUV マスク、ナノインプリントのマスターテンプレートです。微細パターンの CD 測定、MAM（Move Acquire Measure）タイムの最適化、大視野測定、設計データを使う DBM（Design Based Metrology）、3D 観察に対応します。

測定スループットは前機種 E3640 の 2 倍に向上し、測定再現性と長期の CD 測定安定性も高めました。マルチパターニングや微細化で増えたマスク枚数と測定点数に対応するための装置で、広く採用されている E3600 シリーズの最新機種です。

主な特長

•EUV マスク・NIL テンプレートの CD 測定
•前機種 E3640 比で測定スループット 2 倍
•DBM（設計ベース計測）・3D 観察・大視野測定

主な仕様

測定方式	マスク用 CD-SEM（多次元観察・測長）
対象マスク	先端フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート
関連機種	E3660（2nm 以降向け・2025年）
主要用途	マスクパターン寸法・輪郭の計測

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	ホロン電子ビームフォトマスクパターン寸法測定装置	アドバンテストMASK MVM-SEM® E3650
測定方式	電子ビーム（マスク用 CD-SEM）	マスク用 CD-SEM（多次元観察・測長）
関連機種	LEXa シリーズ（フォトマスク欠陥レビュー分析）	E3660（2nm 以降向け・2025年）
主要用途	フォトマスクの線幅測定	マスクパターン寸法・輪郭の計測