最後更新:2026年10月23日中電流離子佈植機

Purion M的特點與規格

Axcelis Technologies・中電流離子佈植機

Purion 平台的中電流機,與高電流的 Purion H、高能量的 Purion XE 共用同一平台。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Purion M 是 Axcelis Technologies 的中電流離子佈植機,與高電流的 Purion H、高能量的 Purion XE 共用同一個 Purion 平台。在中電流機種中擁有最寬的劑量範圍,可彈性因應不斷變化的佈植需求。

結合精密的點狀束(spot beam)束線技術與每小時 500 片的單晶圓式平台,在 2keV~1MeV 的寬廣能量範圍內,為低能量・中劑量的應用,特別是井區、通道與 HALO 佈植,提供高可靠度、高精度與高生產力。高能量能力大幅超越競爭機種,也適合重元素的佈植。

以磁場與靜電兩種方式進行過濾的混合式束線設計,在所有能量下抑制金屬汙染,適合影像感測器用途。可原位量測並控制 X・Y 方向的角度。廠商表示,單一磁鐵的束線設計使能源效率比競爭機種高 20%。

主要規格

類別中電流離子佈植機
平台Purion(H/M/XE 共通)
能量範圍2 keV ~ 1 MeV
產能500 WPH(單晶圓式平台)
主要用途井區・通道・HALO・源汲極的中劑量佈植

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

能量範圍 2keV~1MeV,劑量範圍寬廣
500wph 的單晶圓式平台
混合式(磁場・靜電)過濾,低金屬汙染
X・Y 角度的原位量測・控制

主要用途

  • 井區・通道・HALO 佈植
  • 源極/汲極接面的形成
  • 影像感測器

製造商

Axcelis Technologies(總部:美國)

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資料來源

  1. Axcelis Technologies 官方產品頁面:Axcelis
  2. Axcelis Technologies 官方新聞稿:Axcelis Purion M