LA-3100 是 SCREEN Semiconductor Solutions 的閃光燈退火設備。從瞬間發光的氙氣閃光燈照射數毫秒的光,使晶圓表面溫度高速升降。
由於能以低熱預算(熱履歷)進行熱處理,可在高度活化佈植於源極・汲極之雜質的同時,精密控制其濃度分布。定位為對改善最先進元件特性有重大貢獻的設備。
由於以單晶圓方式處理晶圓,可在嚴格管理的低氧氣氛中退火。在對晶圓全面進行毫秒級控制之熱處理的同時,也搭載實測加熱照射中晶圓溫度的功能,從研發階段起便容易掌握・釐清與溫度相關的物理現象。
以氙氣閃光燈數毫秒的照射使晶圓表面升降溫的 SCREEN 毫秒退火設備。以低熱預算實現雜質的高活化。
LA-3100 是 SCREEN Semiconductor Solutions 的閃光燈退火設備。從瞬間發光的氙氣閃光燈照射數毫秒的光,使晶圓表面溫度高速升降。
由於能以低熱預算(熱履歷)進行熱處理,可在高度活化佈植於源極・汲極之雜質的同時,精密控制其濃度分布。定位為對改善最先進元件特性有重大貢獻的設備。
由於以單晶圓方式處理晶圓,可在嚴格管理的低氧氣氛中退火。在對晶圓全面進行毫秒級控制之熱處理的同時,也搭載實測加熱照射中晶圓溫度的功能,從研發階段起便容易掌握・釐清與溫度相關的物理現象。
| 加熱方式 | 氙氣閃光燈(毫秒) |
|---|---|
| 氣氛 | 單晶圓處理・低氧氣氛 |
| 特點 | 實測加熱照射時的晶圓溫度 |
| 主要用途 | 源極/汲極的雜質活化 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。