SCREEN 的批次式濕式清洗台(wet station)。以高速傳送與緩衝模組每小時處理 1,000 片,並以減壓乾燥系統 HiLPD 抑制水痕與圖形崩塌。
目錄5 項
- 產品概要
- 主要規格
- 主要特點
- 製造商與在台據點
- 資料來源
產品概要
FC-3100 是 SCREEN Semiconductor Solutions 的批次式濕式清洗台。採用將晶圓連同載具浸入藥液槽清洗的方式,透過高產能緩衝模組與高速傳送模組,實現每小時 1,000 片的高生產力。
為提高可靠度,採用將設備本體分成 7 個獨立模組再組合的簡潔結構。各模組為標準化的獨立結構,以 2 個清洗槽為 1 模組的精簡設計,從組裝到調整、檢查、搬入都能順利進行。
乾燥採用減壓乾燥系統 HiLPD。無需載氣 N₂ 即可供應高濃度 IPA,因此能大幅抑制水痕。以高濃度 IPA 迅速降低表面張力,也能防止圖形崩塌。
主要規格
| 方式 | 批次式濕式清洗台 |
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| 產能 | 1,000 片/小時 |
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| 構成 | 7 個獨立模組(2 個清洗槽為 1 模組) |
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| 主要技術 | 減壓乾燥系統 HiLPD(高濃度 IPA) |
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規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
以減壓乾燥系統 HiLPD(高濃度 IPA)抑制水痕・圖形崩塌 製造商與在台據點
在台據點
- 台灣迪恩士半導體科技(SCREEN SPE Taiwan)(新竹):1990 年成立的台灣子公司
- 服務據點(林口・台中・台南):就近支援北部、中部與南部科學園區的晶圓廠