DW-3100 是 SCREEN 面向先進封裝的直接寫入曝光設備。不使用光罩即可因應先進封裝的多樣需求,兼顧高精細與高生產力。
以獨家開發的 GLV(Grating Light Valve)寫入頭與光學系統,實現世界最高水準的 1µm 以下解析度。
支援全域、局部與逐晶粒(Die-by-die)3 種對準。可依製造製程選擇支援晶圓或支援方形面板的版本。
以獨家 GLV 寫入頭達到 1µm 以下解析度、面向先進封裝的無光罩直接寫入曝光設備。
DW-3100 是 SCREEN 面向先進封裝的直接寫入曝光設備。不使用光罩即可因應先進封裝的多樣需求,兼顧高精細與高生產力。
以獨家開發的 GLV(Grating Light Valve)寫入頭與光學系統,實現世界最高水準的 1µm 以下解析度。
支援全域、局部與逐晶粒(Die-by-die)3 種對準。可依製造製程選擇支援晶圓或支援方形面板的版本。
| 方式 | 無光罩直接寫入(GLV 寫入頭) |
|---|---|
| 解析度 | 1µm 以下 |
| 適用基板 | 晶圓・方形面板(另有支援 PLP 的版本) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。