フォトマスクメーカー一覧
フォトマスクメーカーは、露光工程でウェハに回路パターンを転写するための原版（フォトマスク・レチクル）を製造する企業です。石英ガラス基板に遮光膜を成膜したマスクブランクスに、電子ビーム描画装置で回路パターンを描き、エッチング、検査、欠陥修正を経て出荷します。最先端品は半導体メーカーが自社で内製し、成熟〜先端の幅広い品種を外部のマスク専業メーカーが供給する構造です。EUV露光向けでは反射型マスクという別の構造が必要になり、高度な技術が求められています。
収録 6社
フォトマスクメーカーの特徴
- 露光工程で使う回路パターンの原版を製造する
- マスクブランクスに電子ビームで描画して作る
- 最先端品は内製、幅広い品種を専業メーカーが供給
- EUV向けは反射型マスクで技術難度が高い
フォトマスクメーカーの主要企業6社
光学・医療・情報技術の世界的企業。半導体分野ではフォトマスクブランクのトップサプライヤーで、EUV用マスクブランクの開発・供給で世界的存在感を持つ。
米国コネチカット州に本社を置くフォトマスクメーカー。半導体向けと FPD 向けのフォトマスクを製造し、米国・欧州・台湾・韓国・中国に製造拠点を持つ。台湾では大日本印刷との合弁でも事業を行う。
印刷技術から発展した多角化企業で、半導体向けフォトマスク・パッケージ基板・ガラスコア基板を提供。日本・台湾・韓国のファウンドリ向けEUVマスクを供給し、Intelとガラスコア基板の共同開発を進める。
フォトマスクの国内大手メーカー。半導体・ディスプレイ向けフォトマスクを中心に、印刷技術を応用した精密加工・材料事業を幅広く展開する。
フォトエッチング・金属エッチング加工、回路基板、フォトマスクの製造を行う。国内の自社工場で試作から量産まで一貫して対応する。
製紙用の抄紙網を祖業とし、電子部材・フォトマスク事業を展開する。フォトマスクの製造と、フォトエッチングによる精密金属加工品を供給するほか、環境・水処理関連事業も持つ。
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