GateKeeper® GPU

水分と揮発性金属を同時に除去する Entegris の腐食性ガス用ガス精製器。

GateKeeper GPUとは

GateKeeper GPU は、Entegris のガス精製器（ガスピュリファイア）です。半導体製造に使うプロセスガスから不純物を取り除き、ppt（1 兆分の 1）レベルの純度にします。

塩素（Cl₂）、臭化水素（HBr）、塩化水素（HCl）、四フッ化炭素（CF₄）、二酸化硫黄（SO₂）、六フッ化硫黄（SF₆）などの腐食性ガスを含む幅広いガスに対応します。ガス種に合わせた多数の精製媒体が用意されています。

精製器での圧力損失が小さく、加熱の要らない常温で動作します。再生可能な設計で廃棄コストや廃棄物の心配がなく、長寿命で所有コストを抑えられます。欧州圧力機器指令（PED）の CE 認証を受けています。バルクガス供給系、リソグラフィ、エピタキシー、ドライエッチング、ウェーハ成長、成膜の各工程に使われます。

主な特長

•ppt レベルまでの精製
•腐食性ガス（Cl₂・HBr・HCl など）に対応
•低圧損・常温動作
•再生可能で長寿命

主な仕様

精製方式	吸着メディア＋内蔵 Wafergard フィルタ
対象ガス	Cl₂・HBr・HCl・CF₄・BCl₃・SO₂・SF₆ など 18 種
主要用途	装置直前（ポイントオブユース）のガス精製

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	大陽日酸（Taiyo Nippon Sanso）高純度ガス精製装置（LPI／Nanochem シリーズ）	EntegrisGateKeeper® GPU
精製方式	常温吸着・低温吸着・ゲッター式	吸着メディア＋内蔵 Wafergard フィルタ
対象ガス	N₂・O₂・H₂・Ar・He・NH₃	Cl₂・HBr・HCl・CF₄・BCl₃・SO₂・SF₆ など 18 種
主要用途	半導体工場のバルクガス精製	装置直前（ポイントオブユース）のガス精製