ガス精製装置メーカー3社
ガス精製装置は、供給ガス中に残る水分・酸素・炭化水素をppb〜pptレベルまで除去する装置です。ボンベやタンクの段階で高純度でも、配管の内壁に吸着した水分が徐々に放出されるため、装置直前での最終精製が必要になります。ゲッター材による化学吸着、触媒による酸化除去、分子ふるいによる吸着など、除去対象に応じた方式を組み合わせます。酸素や水分の混入は膜中の不純物や界面欠陥として現れるため、精製後の純度が成膜品質を直接左右します。
メーカー 3 社関連カテゴリ 2 件
主要特徴
水分・酸素・炭化水素をppb〜pptレベルまで除去する
配管内壁からの脱ガスがあるため装置直前での最終精製が要る
ゲッター材・触媒・分子ふるいを対象に応じて組み合わせる
精製後の純度が膜中不純物と界面欠陥を左右する
メーカー
3社の主要メーカー
大陽日酸（Taiyo Nippon Sanso）日本
日本最大の産業ガスメーカー（三菱ケミカルグループ傘下）。半導体向け超高純度特殊ガス（SiH₄・HF・BF₃・Cl₂等）・超純液体窒素・液体ヘリウムを供給。世界20カ国以上に特殊ガス製造・供給拠点を持つ。
特殊ガス
SiH₄（モノシラン）超高純度N₂・O₂・Ar・H₂BF₃（イオン注入源ガス）
- •半導体向け特殊ガスで日本最大のサプライヤー
- •超高純度ガス（Grade 6N以上）の製造・分析技術
エア・ウォーター日本
産業ガスを中核とする国内大手。窒素・酸素・水素などのバルクガスに加え、半導体プロセス向けの各種特殊ガスや、オンサイト供給設備・ガス供給配管システムを手掛ける。
産業ガス
高純度窒素水素アルゴン
特殊ガス・設備
半導体用特殊ガスオンサイト供給設備ガス供給配管
- •バルクガスと特殊ガスの両方を供給
- •オンサイト発生設備によるファブ向け供給体制
Entegris米国
半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア（FOUP）・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。
CMPスラリー・パッド
Optima CMPスラリー研磨パッド
フィルタ・精製装置
超純水フィルタガス精製器
ウェハ搬送材料
FOUPウェハシッパー
- •半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ（CMC Materials統合後）
- •超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理