電子ビーム直接描画装置メーカー4社
電子ビーム直接描画装置は、マスクを使わず電子ビームでウェハへ直接パターンを描く露光装置です。電子線の波長は極めて短いため光の回折限界に縛られず、数nm級の解像度が得られます。1本のビームで逐次描いていくためスループットが低く量産には向きませんが、マスク製作が不要という特性から、試作・研究開発・少量多品種・ASICの短納期対応で価値を発揮します。マルチビーム化によるスループット改善が進められており、マスク描画装置と技術的な地続きにあるカテゴリです。
主要特徴
メーカー
4社の主要メーカー
電子顕微鏡・電子線描画装置・分析機器の総合メーカー。半導体分野ではマスク描画用EB装置・電子線露光装置、研究用TEM/SEMを提供。
- •電子線描画装置（JBX シリーズ）で研究・試作向け市場を牽引
- •TEM/SEMなど電子顕微鏡で世界トップシェアを持つ
電子ビーム（EB）描画装置の専業メーカー。研究開発用途から微細加工向けまで、高分解能なEBリソグラフィ装置を国内外に供給する。
- •電子ビーム描画装置の専業メーカー
- •研究開発用途で豊富な導入実績
半導体テスト装置（ATE）市場で世界シェア50%超のリーダー。SoC、メモリ、パワー半導体の包括的テストソリューションを提供。
- •ATE市場で世界シェア50%以上のトップポジション
- •SoC、メモリ、パワー半導体の包括的テストソリューション
電子ビーム（EB）マスク描画装置のドイツ発専業メーカー。フォトマスク製造向けの高精度EB描画装置を、研究開発から量産用途まで供給する。
- •EBマスク描画装置の専業メーカー
- •高精度パターン形成技術に強み
関連カテゴリ
ベーク・UVキュア装置は、塗布した膜を加熱または紫外線照射によって硬化・安定化させる装置です。
メーカー 5 社コータ／デベロッパコーター/デベロッパ（Coater/Developer）は、フォトリソグラフィ工程でレジスト塗布（コーティング）と露光後の現像（デベロップ）を行う一体型装置です。
メーカー 7 社DUV露光装置DUV露光装置（Deep Ultraviolet Lithography）は、ArFエキシマレーザー（193nm）またはKrFエキシマレーザー（248nm）を光源とした露光装置です。
メーカー 5 社EUV露光装置EUV露光装置（Extreme Ultraviolet Lithography）は、波長13.5nmの極端紫外線を使用してウェハ上に超微細回路パターンを転写する露光装置です。
メーカー 2 社i線ステッパーi線ステッパー（i-line Stepper）は、水銀ランプのi線（波長365nm）を光源とする露光装置で、0.18μm以上の成熟ノードの半導体製造に現在も広く使用されています。
メーカー 3 社レーザー直接描画装置レーザー直接描画装置（LDI／マスクレス露光装置）は、マスクを介さずレーザー光を走査してパターンを描く露光装置です。
メーカー 3 社マスクアライナーマスクアライナーは、マスクとウェハを直接向かい合わせ、等倍でパターンを一括転写する露光装置です。
メーカー 3 社ナノインプリントリソグラフィ（NIL）ナノインプリントリソグラフィ（NIL：Nanoimprint Lithography）は、マスク（テンプレート）のナノ構造パターンを紫外線硬化樹脂などの材料に直接押し付けてパターンを転写するリソグラフィ技術です。
メーカー 3 社