SHX-Ⅲ(HC)

国内のイオン注入装置メーカーによる高電流機。ビームスキャンとメカニカルスキャンを組み合わせ、極低エネルギー領域での生産性を確保する。

SHX-Ⅲ(HC)とは

SHX-Ⅲ/HC は、住友重機械イオンテクノロジーの枚葉式高電流イオン注入装置です。注入エネルギーは 0.2〜60keV で、極低エネルギー領域で高い生産性を得ることを重視した設計です。

ビームスキャンとメカニカルスキャンを組み合わせる方式を世界で初めて採用し、新開発の大ビーム用静電スキャナーと平行化レンズを搭載しています。最終段には静電場と磁場によるエネルギーフィルターを置き、エネルギー汚染のない高純度ビームを得ます。量産に対応する、ドリフト並みにエネルギー汚染のない 200eV の高ビーム電流を実現しています。

ウェーハ全面にわたる高精度の注入均一性を MIND システムで補正し、メタルコンタミネーションも極小化しています。300mm ウェーハに対応し、20〜22nm ノードの次世代プロセスや最先端デバイスの生産に使われます。

主な特長

•注入エネルギー 0.2〜60keV、極低エネルギーで高生産性
•ビームスキャン＋メカニカルスキャンの組み合わせ
•静電場・磁場による最終段エネルギーフィルター
•MIND システムによる不均一補正

主な仕様

区分	高電流イオン注入装置
ビーム方式	ビームスキャンとメカニカルスキャンの組合せ
特徴	極低エネルギー領域での高い生産性
エネルギー範囲	0.2 ～ 60 keV
主要用途	高ドーズ・極低エネルギー注入

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Axcelis TechnologiesPurion H（Purion H6）	Applied MaterialsVIISta Trident	住友重機械イオンテクノロジーSHX-Ⅲ(HC)
区分	高電流イオン注入装置	高電流イオン注入装置（枚葉式）	高電流イオン注入装置
ビーム方式	スキャンドスポットビーム	デュアルマグネットリボンビーム	ビームスキャンとメカニカルスキャンの組合せ
主要用途	ソース／ドレインなどの高ドーズ注入	先端ノードの高電流注入	高ドーズ・極低エネルギー注入

1機種だけが掲載している項目（6件）

角度制御	Purion Vector 角度制御システム	—	—
エンドステーション	Purion 500 wph エンドステーション対応	—	—
主要機構	—	エネルギー純度モジュール（EPM）	—
制御項目	—	エネルギー汚染・均一性・注入角度・ドーズレート	—
特徴	—	—	極低エネルギー領域での高い生産性
エネルギー範囲	—	—	0.2 ～ 60 keV