MC3-Ⅱ(MC)とは
MC3-Ⅱ/MC は、住友重機械イオンテクノロジーの中電流イオン注入装置です。注入エネルギーは 3〜960keV と幅広く、300mm と 200mm のウェーハに対応します。
左右対称なイオンビーム平行化光学系と独自の走査方式を採用し、最終段にエネルギーフィルターと減速機構を配置しています。In や Sb などの重イオンの注入に対応し、高速オートビームセットアップ、低エネルギー領域のビーム電流の増大、多価ビームの増大を図っています。
エネルギーコンタミネーションとメタルコンタミネーションを極小化し、MIND2.0 システムでウェーハ全面の高精度な注入均一性を実現します。メカニカルスループットの増大で生産性も大きく向上させました。16〜14nm ノードの微細化プロセスや撮像素子に使われ、10nm 以下のノードへの対応も予定しています。
主な特長
- •注入エネルギー 3〜960keV
- •左右対称のビーム平行化光学系、最終段エネルギーフィルター
- •重イオン（In・Sb）・多価ビームに対応
- •MIND2.0 による注入均一性
主な仕様
| 区分 | 中電流イオン注入装置 |
|---|---|
| 特徴 | 操作性と信頼性を重視した設計 |
| 関連機種 | SAion（高電流／中電流一体型） |
| 主要用途 | ウェル形成・しきい値調整注入 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsVIISta 900XP | Axcelis TechnologiesPurion M | 日新イオン機器EXCEED3000AH | 住友重機械イオンテクノロジーMC3-Ⅱ(MC) |
|---|---|---|---|---|
| 区分 | 中電流イオン注入装置 | 中電流イオン注入装置 | 中電流イオン注入装置 | 中電流イオン注入装置 |
| 主要用途 | ウェル形成・しきい値調整などの精密注入 | ウェル・チャネル・HALO・ソースドレインの中ドーズ注入 | 注入角度・エネルギー精度が要求される中ドーズ注入 | ウェル形成・しきい値調整注入 |
| 関連機種 | VIISta 900 3D | — | EXCEED400HY（水素注入） | SAion（高電流／中電流一体型） |
| エネルギー範囲 | 300 keV（+ 価数）／600 keV（++ 価数） | 2 keV ～ 1 MeV | — | — |
1機種だけが掲載している項目（6件）
| 重視項目 | 精度・クリーンさ・生産性 | — | — | — |
|---|---|---|---|---|
| プラットフォーム | — | Purion（H／M／XE 共通） | — | — |
| スループット | — | 500 WPH（枚葉プラットフォーム） | — | — |
| 対応ウェハ径 | — | — | 300 mm | — |
| 系譜 | — | — | EXCEED2000（1994年）以来の中電流シリーズ | — |
| 特徴 | — | — | — | 操作性と信頼性を重視した設計 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •16〜14nm ノードの微細化プロセス
- •撮像素子（イメージセンサー）
掲載カテゴリ
MC3-Ⅱ(MC)は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
住友重機械イオンテクノロジー
住友重機械工業グループのイオン注入装置専業メーカー。半導体前工程のドーパント注入から、太陽電池・パワー半導体向けの表面改質装置まで幅広く展開する。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06