S-UHE／SS-UHE Ⅱ

多段RFリナック加速方式の高エネルギーイオン注入装置シリーズ。S-UHEに対し、SS-UHE Ⅱは生産性を高めた機種にあたる。

S-UHE／SS-UHE Ⅱとは

S-UHE／SS-UHE Ⅱ は、住友重機械イオンテクノロジーの枚葉式超高エネルギーイオン注入装置です。多段 RF リナック加速方式を採用し、S-UHE の注入エネルギーは 85keV（DC）〜6.8MeV、SS-UHE Ⅱ では最大 14.4MeV まで高められています。

対称的なイオンビーム平行化光学系を搭載し、高い注入角度精度によって良好な面内均一性と再現性を得ています。高品質と高い生産性を両立しています。

SS-UHE はウェーハスキャンの高速化によるスループット向上、エネルギー精度・ビーム角度精度の向上、メタルコンタミネーションの極小化、排気性能の向上を図った機種です。主な用途は CCD や CMOS イメージセンサーの量産と、エンベディッド型デバイスのトリプルウェル形成です。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Axcelis TechnologiesPurion XE	住友重機械イオンテクノロジーS-UHE／SS-UHE Ⅱ
区分	高エネルギーイオン注入装置	高エネルギーイオン注入装置
加速方式	RFリニアック（LINAC）	多段RFリナック
主要用途	深いウェル形成などの高エネルギー注入	レトログレードウェルなどの深部注入

1機種だけが掲載している項目（3件）

特徴	広いエネルギーレンジ・金属汚染制御	—
関連機種	Purion XE+ SiC・Purion EXE+ SiC（SiCパワーデバイス向け）（派生機種）	—
シリーズ構成	—	S-UHE／SS-UHE Ⅱ／HE3

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。