最後更新:2026年10月23日尾氣處理設備(Abatement)

Aeris-G Plasma Abatement System的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・尾氣處理設備(Abatement)

在真空幫浦前端以電漿分解的尾氣處理設備。以較少能量處理 PFC・NF₃・SF₆ 等溫室氣體。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Aeris-G 是應用材料的電漿式尾氣處理設備。設置在腔體與真空幫浦之間(幫浦前段),以電漿分解 PFC、NF₃、SF₆ 等全球暖化潛勢高的氣體。

幫浦後段的尾氣處理設備處理的是被大量氮氣稀釋的氣體,而 Aeris-G 處理的是濃度高、量少的製程氣體本身,因此所需能量較少。由於採電漿分解且氮氣少,NOx 排放幾乎為零。只在腔體處理時運轉的隨需運轉,也能壓低運轉成本。

可收納在各腔體的幫浦安裝空間內,也能加裝到既有的排氣管路。處理效率 CF₄ 超過 95%,SF₆・CHF₃・C₃F₈・NF₃・C₄F₈ 超過 99%。已售出 4,000 台以上,稼動率超過 99.9%。

主要規格

處理方式幫浦前段電漿尾氣處理(隨需運轉)
處理效率CF₄ 超過 95%,SF₆・NF₃・C₄F₈ 等超過 99%
實績4,000 台以上・稼動率超過 99.9%

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

幫浦前段電漿尾氣處理
隨需運轉節能
幾乎不排放 NOx・VOC・COx
零佔地面積(收納於幫浦空間內)

主要用途

  • 蝕刻・CVD 排氣的 PFC 處理
  • 加裝於既有設備

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

所屬設備分類

相關用語

同分類的其他機型

應用材料(Applied Materials)的其他機型

資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Aeris-G