最後更新:2026年10月23日光罩寫入機(電子束寫入)

Alta 4700DP Mask Writer的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・光罩寫入機(電子束寫入)

以 DUV 雷射與高 NA 光學系統寫入二元光罩・相移光罩的雷射寫入設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Alta 4700DP 是應用材料的雷射式光罩寫入機。以高 NA 光學系統與 DUV 雷射形成銳利聚焦的光束,在二元光罩或相移光罩(PSM)上寫入電路圖案。

以多顆高速處理器運作、以軟體為基礎的新資料路徑,寫入速度比舊機型快 10~50%。並行進行圖案準備與寫入,減少量產中的等待時間。以改良的載台控制,也提高了光罩組之間的對位精度。

具備相移光罩用的第 2 層對準、提升寫入品質的多重寫入(關鍵層 4 道,其餘為高速 2 道),以及依圖案密度修正線寬誤差的功能。也標準搭載 SECS/GEM。

主要規格

寫入方式DUV 雷射寫入(高 NA 光學系統)
對象二元光罩・相移光罩
特點以新資料路徑較舊機型快 10~50%・2 道/4 道寫入

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

DUV 雷射+高 NA 光學系統
寫入速度較舊機型提升 10~50%
2 道/4 道多重寫入
標準搭載 SECS/GEM

主要用途

  • 二元光罩的寫入
  • 相移光罩的寫入

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Alta 4700DP