Axcela PVD的特點與規格

Axcela PVD 是應用材料的小批次・叢集式 PVD（濺鍍）設備。過去 10 年間一直維持膜厚非均勻性低於 2%（1σ），穩定性高。

能以低成本沉積最厚 8µm 的厚膜，並採易於維護的設計。每個濺鍍腔標準可沉積最多 3 種材料，也可選擇提高沉積速率的共濺鍍。支援 150・200・300・330mm 晶圓，可組合除氣・預清洗・PVD 模組。

以 D 源磁控管使用靶材全面，提高靶材利用率。用於 EMI 屏蔽、晶背金屬化、MEMS、TSV、UBM、RDL 等多種金屬化用途。