Datacon 2200 evo advanced 是 Besi 成熟的多模組貼裝平台的最新版本。
以全新的龍門架與控制器、新一代的視覺系統與相機,在兼顧生產力與產能的同時,實現 ±3µm(3σ)的優異放置精度。旋轉精度為 ±0.07°(3σ)。
也有可選擇視野與解析度的相機,以及 3D・非接觸高度量測的選配。在大幅提高精度與放置能力的同時,承襲 Datacon 2200 evo 平台的彈性與完全客製化能力。
多模組貼裝的最新機種。以新的龍門架與相機達到 ±3µm 的放置精度。
Datacon 2200 evo advanced 是 Besi 成熟的多模組貼裝平台的最新版本。
以全新的龍門架與控制器、新一代的視覺系統與相機,在兼顧生產力與產能的同時,實現 ±3µm(3σ)的優異放置精度。旋轉精度為 ±0.07°(3σ)。
也有可選擇視野與解析度的相機,以及 3D・非接觸高度量測的選配。在大幅提高精度與放置能力的同時,承襲 Datacon 2200 evo 平台的彈性與完全客製化能力。
| 放置精度 | ±3µm @ 3σ(旋轉 ±0.07°) |
|---|---|
| 視覺系統 | 新光學系統・相機・3D 非接觸高度量測(選配) |
| 多晶片 | 最多 14 種拾取 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
Besi(總部:荷蘭)