AdvancedAce®-II

KOKUSAI ELECTRIC のラージバッチ縦型熱処理装置。温度制御・搬送・真空／ガス置換などの要素技術を集約し、サイクルタイムを短縮した。

AdvancedAce-IIとは

AdvancedAce-II（アドバンスドエースⅡ）は、KOKUSAI ELECTRIC の 300mm ウェーハ対応ラージバッチ式サーマルプロセス装置です。温度制御、自動搬送、真空・ガス置換、冷却、成膜という同社のコア技術を結集し、サイクル時間を飛躍的に短縮して高いスループットを実現しました。

成膜プロセス装置としては LP-CVD による CVD 膜・酸化膜の形成に、トリートメント装置としては酸化・拡散・低温／高温アニールに使われます。ロット処理能力は同社比で最大 1.75 倍と、ラージバッチ系の中で最も高い生産性を持ちます。

深い溝形状への均一な膜形成、低温での高精度・高品質な成膜を特長としています。オプションでヘルスチェック機能も用意しています。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Kokusai Electric（国際電気）AdvancedAce®-II	ASMインターナショナルSONORA®	光洋サーモシステムVF-5700
方式	ラージバッチ縦型炉	バッチ縦型炉（デュアルボート）	バッチ縦型炉（50 枚）
対応ウェハ径	300 mm	300 mm	300 mm
処理	CVD・酸化・拡散・アニール	LPCVD（ポリ Si・SiN・SiO）・バッチ ALD・酸化・拡散・アニール	酸化・拡散・LP-CVD・アニール
主要用途	量産ラインの熱 CVD・熱処理	ロジック・メモリ・アナログ／パワー	Si デバイスの熱処理