ASM 的 300mm 立式爐。採雙反應器・雙晶舟配置，從常壓擴散・氧化到 LPCVD・批次 ALD 皆可在 1 個平台上處理。
目錄5 項
- 產品概要
- 主要規格
- 主要特點
- 製造商與在台據點
- 資料來源
產品概要
SONORA 是 ASM International 的 300mm 立式爐（批次式熱處理設備）。採具備 2 個反應器與 2 個晶舟的雙反應器・雙晶舟配置，每批最多處理 150 片。
常壓製程可進行擴散・雜質活化、退火、氧化，減壓製程可進行多晶矽・氮化膜・氧化膜的 LPCVD。也支援金屬氧化膜・金屬氮化膜的批次 ALD，以 1 台機台涵蓋廣泛的熱處理・薄膜沉積製程。
特點是與前一代機型 A412（出貨超過 1,000 台）製程相容，既有配方容易移轉。生產力比 A412 最多高出 30%，占地面積也更小。以獨家的氣體導入系統確保整個批次減壓沉積的均勻性，並減少每片晶圓的能源與化學品用量。
主要規格
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
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| 批次處理片數 | 最多 150 片 |
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| 常壓製程 | 擴散・雜質活化・退火・氧化 |
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| 減壓製程 | LPCVD（Poly-Si・SiN・SiO）／批次 ALD |
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| 生產力 | 比前一代機型 A412 最多提升 30%（配方相容） |
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規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
同時支援常壓（擴散・氧化・退火）與減壓（LPCVD） 生產力比前一代 A412 最多提升 30%，配方相容 主要用途
- 摻雜物擴散・活化、退火、氧化
- 摻雜 Si・SiN・TEOS 的 LPCVD
- 金屬氧化膜・金屬氮化膜的批次 ALD
- 邏輯／晶圓代工、記憶體、類比／功率等各產線
製造商
ASM International（總部：荷蘭）