Metior的特點與規格

Metior 是科林研發（Lam Research）的晶圓質量量測設備。量測晶圓質量，以及製程前後的質量變化這種物理意義明確的量。

可偵測次奈米的薄膜，元件越複雜、深寬比越高，靈敏度越高。可用於光學量測無效的 3D 或隱藏結構的製程管理。

持有成本低，可進行高產出的線上監控。單機配置可多用途使用，整合於平台的配置則可即時管理所有晶圓。用於監控 DRAM 單元、3D NAND 通道孔等高深寬比蝕刻，以及共形沉積等。有 Metior HX 與 Metior HXE。