Akara 是科林研發的導體蝕刻設備。在 CFET 這類新型邏輯電晶體，以及 4F² 與 3D DRAM 等新型記憶體結構中，需要超越現有最先進水準的蝕刻性能。
首度採用名為 DirectDrive 的固態電漿源，對製作複雜 3D 結構所需的製程變化，響應速度比以往電漿源快 100 倍以上。結合獨家的離子能量控制與電漿脈衝化，實現 Å 等級的 CD 均勻性與晶圓間再現性。
以量產中運轉超過 3萬個腔體的 Kiyo 經驗為基礎開發，定位為繼 Kiyo 之後新一代的導體蝕刻。以新的電漿源與高效率蝕刻，也降低晶片製造的能源消耗。搭載於 Sense.i 平台。