Litho Booster 是尼康（Nikon）活用在曝光機領域累積的技術所開發的高功能對準站，可在曝光前針對所有晶圓高速且高精度量測網格畸變的絕對值。
將量測所得的補正值前饋至曝光機，可在不降低曝光機產能的情況下大幅提高疊對精度，有助於提升產品良率與設備投資效率。事先偵測並補正每個層、批次、晶圓、曝光區所產生的畸變，已成為重要課題。
不僅可搭配浸潤式掃描機，也可搭配乾式掃描機。藉由對所有曝光區進行對準，減少晶圓貼合（Wafer to Wafer 接合）等所產生的晶圓畸變影響，改善 OPO（On Product Overlay）。