Litho Booster

露光前の全ウェハでグリッド歪みを高速に計測し、露光装置へフィードフォワード補正するニコンのアライメントステーション。

Litho Boosterとは

Litho Booster は、ニコンが露光装置の分野で培った技術を生かした、高機能のアライメントステーションです。露光する前のすべてのウェハについて、グリッド歪みの絶対値を高速かつ高精度に計測します。

計測した補正値を露光装置にフィードフォワードすることで、露光装置のスループットを落とさずに重ね合わせ精度を大きく高め、製品の歩留まりや設備投資効率の向上に役立ちます。レイヤー、ロット、ウェハ、ショットごとに生じる歪みを事前に検知して補正することが、重要な課題になっています。

液浸スキャナーだけでなくドライスキャナーとも組み合わせられます。全ショットでアライメントすることで、ウェハの貼り合わせ（Wafer to Wafer ボンディング）などで生じるウェハの歪みの影響を減らし、OPO（On Product Overlay）を改善します。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	KLAArcher™ 750	KLAATL100™	KLAArcher™ Power	ASMLYieldStar 1390	ASMLYieldStar 1385	ASMLYieldStar 500	Onto InnovationIVS 380	Onto InnovationIVS 280	ニコン（Nikon）Litho Booster
方式	—	スキャトロメトリ重ね合わせ計測（波長可変レーザー・分解能 1nm）	イメージング重ね合わせ・CD 計測	光学計測（エッチング後）	光学計測（エッチング後）	回折ベースの光学計測（エッチング前）	光学式の重ね合わせ・CD・Z 高さ計測	—	—
特徴	波長可変光源	リアルタイム Homing・ダイ内／小ピッチターゲット対応	—	高強度光源・機械学習アルゴリズム	複数層の同時計測・高いサンプリング密度	TWINSCAN ステージ技術・新センサー	—	—	—
対応基板	—	—	Si・SiC・GaN・GaAs・ガラス・サファイアなど	—	—	—	200mm（SMIF）・300mm（FOUP）、Si・ガラス・CCL	Si・SiC・石英・ガラス・GaAs・GaN・LiNbO₃	—
対応ウェハ径	—	—	150／200／300 mm・ブリッジ構成	—	—	—	—	100〜200 mm	—
測定項目	—	—	—	デバイス上の重ね合わせ・傾き・CD	—	重ね合わせ・フォーカス	—	—	—

1機種だけが掲載している項目（10件）