CLEAN TRACK LITHIUS Pro 是東京威力科創（TEL）支援 300mm 晶圓的塗佈顯影設備。在提高生產力的同時壓低設備的占地面積，比過去的設備大幅減少了無塵室占用面積。
具備 TEL 獨家技術，實現其核心概念：提升 OEE（整體設備效率）與降低 CoO（持有成本）。
透過新的製程與模組，也支援最先進的浸潤式微影。另有 LITHIUS Pro-i。
CLEAN TRACK LITHIUS Pro的特點與規格
東京威力科創（TEL）・塗佈顯影機
在提高生產力的同時壓低占地面積、大幅減少無塵室占用面積的 TEL 塗佈顯影設備。支援浸潤式微影。
產品概要
主要規格
| 方式 | 塗佈顯影（300mm） |
|---|---|
| 特點 | 提升 OEE・降低 CoO・節省空間 |
| 相關機種 | LITHIUS Pro-i |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
減少無塵室占用面積
提升 OEE・降低 CoO
支援浸潤式微影
主要用途
- 浸潤式 ArF 的光阻塗佈・顯影
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣東京威力科創（新竹）：台灣子公司（1996 年成立）。設有訓練中心，並規劃擴建無塵室
- 台南營運中心（台南）：動工時預計 2024 年下半年完工，樓地板面積約 3.5 萬平方公尺，可容納近千名員工，負責零組件處理、技術服務與維修