不使用清洗液進行表面蝕刻與清潔的東京威力科創 300mm 氣體化學蝕刻設備。不使用電漿,不會產生水痕。
目錄5 項
- 產品概要
- 主要規格
- 主要特點
- 製造商與在台據點
- 資料來源
產品概要
Certas LEAGA 是東京威力科創適用 300mm 的氣體化學蝕刻設備。不使用清洗液即可進行表面蝕刻與清潔,是環境負荷小的高產能設備,定位為等向性蝕刻的核心。
藉由完全乾式化的製程單元,不會產生水痕,在各種氧化膜的蝕刻中展現獨特的選擇比,可對微細界面進行潔淨控制。由於是不使用電漿的處理,稼動率高,能以低成本處理。與 TEL 的清洗設備搭配,可獲得更高的彈性。
支援晶圓2片同時處理與搭載最多 6 個製程腔體,製程單元可自由重組。從量產到次世代開發,用於矽接觸窗前的表面清潔、矽氧化膜的去除與回蝕刻、高深寬比 3D 結構的選擇性蝕刻、高精細凹陷(recess)等。
主要規格
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
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| 方式 | 氣體化學(乾式)蝕刻,無電漿 |
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| 腔體構成 | 最多 6 個腔體(2片同時處理) |
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| 主要用途 | 矽接觸窗前清潔・氧化膜去除・選擇性蝕刻 |
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規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要用途
- 矽接觸窗前的表面清潔
- 矽氧化膜的去除・回蝕刻
- 3D 結構的選擇性蝕刻・凹陷
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣東京威力科創(新竹):台灣子公司(1996 年成立)。設有訓練中心,並規劃擴建無塵室
- 台南營運中心(台南):動工時預計 2024 年下半年完工,樓地板面積約 3.5 萬平方公尺,可容納近千名員工,負責零組件處理、技術服務與維修