CELLESTA-i MD的特點與規格

CELLESTA-i MD 是東京威力科創（TEL）適用 300mm 晶圓的單晶圓清洗設備。支援 10nm 節點以下的最新清洗製程。

發展 CELLESTA-i 的基本概念，使針對最先進微細圖形的無損傷清洗成為可能，並大幅提升微粒去除性能。新採用清洗後的腔體內氣氛控制技術與獨家 IPA 噴吐技術，即使是極微細的圖形，也能抑制圖形崩塌並完成乾燥。

化學品回收功能也獲得提升，降低運轉成本。亦可適用於 Cu 等金屬露出狀態下的清洗。產能為 650 wph，曾獲「Semiconductor of the Year 2014」獎項。