最後更新:2026年10月23日乾式清洗設備

ANTARES的特點與規格

東京威力科創(TEL)・乾式清洗設備

將導入氣體低溫氣膠化,只去除微粒的東京威力科創 300mm 單晶圓乾式清洗設備。不會損傷 Cu 與 Low-k 膜。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

ANTARES 是東京威力科創適用 300mm 晶圓的單晶圓式全自動氣膠清洗設備。以將導入氣體在低溫下氣膠化的獨家技術,穩定地只去除元件表面的微細微粒。

與傳統濕式清洗不同,這是不使用化學品也不使用水的完全乾式製程。因此能在不損傷 Cu 與 Low-k 膜的情況下減少缺陷,並抑制各種金屬材料的腐蝕、水痕的形成與表面帶電(charge-up)。

在乾式環境下,即使是非常敏感的薄膜,也能在不引起表面反應・表面粗化・蝕刻損傷的情況下處理,因此用於從後段到前段廣泛製程的缺陷對策,對提升良率具有效果。

主要規格

適用晶圓尺寸300 mm
方式單晶圓式・低溫氣膠(不使用化學品與水的完全乾式)
主要用途微細圖形的微粒去除(FEOL~BEOL)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

以低溫氣膠進行完全乾式清洗(不使用化學品與水)
不損傷 Cu・Low-k 膜的微粒去除
抑制腐蝕・水痕・表面帶電

主要用途

  • 微細圖形表面的微粒去除
  • 從 BEOL(Cu/Low-k)到 FEOL 的缺陷對策

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣東京威力科創(新竹):台灣子公司(1996 年成立)。設有訓練中心,並規劃擴建無塵室
  • 台南營運中心(台南):動工時預計 2024 年下半年完工,樓地板面積約 3.5 萬平方公尺,可容納近千名員工,負責零組件處理、技術服務與維修

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資料來源

  1. 東京威力科創(TEL)官方產品頁面:ANTARES