CELLESTA MS2 是東京威力科創(TEL)適用 300mm 晶圓的清洗設備,具備以二流體噴霧與刷子進行物理清洗的功能。
由於可同時處理正面與背面,雙面處理時的單位面積生產力為舊設備的 1.5 倍以上(與該公司產品相比)。不再需要為保護非清洗面所用的純水與氣體,也能減少廠務用量。
以 TEL 獨家的晶圓夾持技術,可清洗以往難以處理的晶圓最外圍與晶邊(bevel)部分。產能為 800 wph。
以二流體噴霧與刷子進行物理清洗、可雙面同時處理的 TEL 清洗設備。
CELLESTA MS2 是東京威力科創(TEL)適用 300mm 晶圓的清洗設備,具備以二流體噴霧與刷子進行物理清洗的功能。
由於可同時處理正面與背面,雙面處理時的單位面積生產力為舊設備的 1.5 倍以上(與該公司產品相比)。不再需要為保護非清洗面所用的純水與氣體,也能減少廠務用量。
以 TEL 獨家的晶圓夾持技術,可清洗以往難以處理的晶圓最外圍與晶邊(bevel)部分。產能為 800 wph。
| 方式 | 物理清洗(二流體噴霧・刷洗)・雙面同時處理 |
|---|---|
| 產能 | 800 wph |
| 特點 | 雙面處理的單位面積生產力為舊機型的 1.5 倍以上 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。