最後更新:2026年10月23日晶圓刷洗機

CELLESTA MS2的特點與規格

東京威力科創(TEL)・晶圓刷洗機

以二流體噴霧與刷子進行物理清洗、可雙面同時處理的 TEL 清洗設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

CELLESTA MS2 是東京威力科創(TEL)適用 300mm 晶圓的清洗設備,具備以二流體噴霧與刷子進行物理清洗的功能。

由於可同時處理正面與背面,雙面處理時的單位面積生產力為舊設備的 1.5 倍以上(與該公司產品相比)。不再需要為保護非清洗面所用的純水與氣體,也能減少廠務用量。

以 TEL 獨家的晶圓夾持技術,可清洗以往難以處理的晶圓最外圍與晶邊(bevel)部分。產能為 800 wph。

主要規格

方式物理清洗(二流體噴霧・刷洗)・雙面同時處理
產能800 wph
特點雙面處理的單位面積生產力為舊機型的 1.5 倍以上

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

二流體噴霧+刷洗
雙面同時處理
可清洗到最外圍・晶邊
800 wph

主要用途

  • 晶圓正反面的微粒去除

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣東京威力科創(新竹):台灣子公司(1996 年成立)。設有訓練中心,並規劃擴建無塵室
  • 台南營運中心(台南):動工時預計 2024 年下半年完工,樓地板面積約 3.5 萬平方公尺,可容納近千名員工,負責零組件處理、技術服務與維修

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資料來源

  1. 東京威力科創(TEL)官方產品頁面:TEL CELLESTA