塗佈顯影機是什麼

塗佈顯影機（Coater/Developer）是在微影製程中進行光阻塗佈（coating）與曝光後顯影（develop）的一體化設備。以旋轉塗佈在晶圓全面形成均勻的光阻膜，曝光後再以鹼性顯影液使圖案顯現。東京威力科創（TEL）以 CLEAN TRACK® 系列擁有全球最高市占率。

重點整理

以旋轉塗佈在晶圓全面形成均勻的光阻膜

曝光後以鹼性顯影使單色圖案顯現

自動串連處理塗佈→曝光→顯影的一系列步驟

東京威力科創擁有全球最高市占率（TEL CLEAN TRACK）

是左右 EUV・ArF 浸潤式微影精度的重要周邊設備

烘烤・UV 固化設備是以加熱或紫外線照射使塗佈膜硬化、穩定化的設備。

DUV 曝光機（Deep Ultraviolet Lithography）是以 ArF 準分子雷射（193nm）或 KrF 準分子雷射（248nm）為光源的曝光設備。

電子束直寫設備是不使用光罩，以電子束直接在晶圓上描繪圖案的曝光設備。

EUV 曝光機（Extreme Ultraviolet Lithography）是使用波長 13.5nm 的極紫外光，將超微細電路圖案轉印到晶圓上的曝光設備。

i-line 步進機（i-line Stepper）是以汞燈 i-line（波長 365nm）為光源的曝光設備，目前仍廣泛用於 0.18μm 以上成熟節點的半導體製造。

雷射直寫設備（LDI／無光罩曝光設備）是不透過光罩，以雷射光掃描描繪圖案的曝光設備。

光罩對準曝光機（Mask Aligner）是讓光罩與晶圓直接相對，以等倍一次轉印圖案的曝光設備。

奈米壓印微影（NIL：Nanoimprint Lithography）是將光罩（模板）上的奈米結構圖案直接壓在紫外線硬化樹脂等材料上以轉印圖案的微影技術。