CLEAN TRACK LITHIUS Pro AP 是東京威力科創(TEL)支援 300mm 晶圓的塗佈顯影設備。支援高黏度材料與旋塗硬遮罩材料,針對新一代封裝技術所需的製程進行最佳化。
承襲受到眾多客戶支持的 CLEAN TRACK ACT 12 的概念,將封裝所需的硬體與製程最佳化。
搭載 LITHIUS Pro Z 所採用的附對準功能新傳送系統與薄型旋塗模組,進一步提升可靠度、生產力與良率。不僅在先進製程,也在封裝市場中有助於提升生產力與良率。
支援高黏度材料與旋塗硬遮罩,針對新一代封裝最佳化的 TEL 塗佈顯影設備。
CLEAN TRACK LITHIUS Pro AP 是東京威力科創(TEL)支援 300mm 晶圓的塗佈顯影設備。支援高黏度材料與旋塗硬遮罩材料,針對新一代封裝技術所需的製程進行最佳化。
承襲受到眾多客戶支持的 CLEAN TRACK ACT 12 的概念,將封裝所需的硬體與製程最佳化。
搭載 LITHIUS Pro Z 所採用的附對準功能新傳送系統與薄型旋塗模組,進一步提升可靠度、生產力與良率。不僅在先進製程,也在封裝市場中有助於提升生產力與良率。
| 方式 | 塗佈顯影(300mm) |
|---|---|
| 適用材料 | 高黏度材料・Spin-on Hard Mask |
| 主要用途 | 先進封裝 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。