最後更新:2026年10月23日塗佈顯影機

CLEAN TRACK LITHIUS Pro AP的特點與規格

東京威力科創(TEL)・塗佈顯影機

支援高黏度材料與旋塗硬遮罩,針對新一代封裝最佳化的 TEL 塗佈顯影設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

CLEAN TRACK LITHIUS Pro AP 是東京威力科創(TEL)支援 300mm 晶圓的塗佈顯影設備。支援高黏度材料與旋塗硬遮罩材料,針對新一代封裝技術所需的製程進行最佳化。

承襲受到眾多客戶支持的 CLEAN TRACK ACT 12 的概念,將封裝所需的硬體與製程最佳化。

搭載 LITHIUS Pro Z 所採用的附對準功能新傳送系統與薄型旋塗模組,進一步提升可靠度、生產力與良率。不僅在先進製程,也在封裝市場中有助於提升生產力與良率。

主要規格

方式塗佈顯影(300mm)
適用材料高黏度材料・Spin-on Hard Mask
主要用途先進封裝

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

支援高黏度材料・旋塗硬遮罩
附對準功能的傳送系統
薄型旋塗模組

主要用途

  • 先進封裝的光阻塗佈・顯影

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣東京威力科創(新竹):台灣子公司(1996 年成立)。設有訓練中心,並規劃擴建無塵室
  • 台南營運中心(台南):動工時預計 2024 年下半年完工,樓地板面積約 3.5 萬平方公尺,可容納近千名員工,負責零組件處理、技術服務與維修

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資料來源

  1. 東京威力科創(TEL)官方產品頁面:TEL LITHIUS