Axcelis Technologies/高エネルギーイオン注入装置

Purion XE

RFリニアック(LINAC)加速方式の高エネルギーイオン注入装置。広いエネルギーレンジと金属汚染の抑制を両立する。

Purion XEとは

Purion XE シリーズは、Axcelis Technologies の高エネルギーイオン注入装置です。RF リニアアクセラレータ(LINAC)技術を使い、40keV から最大 15MeV までの注入エネルギーをシリーズ全体でカバーします。

機種は、12 段 LINAC の Purion XE(4.5MeV)、より高エネルギーの Purion EXE(5.25MeV)、ブースター付き 14 段の Purion VXE(8MeV)、デュアル LINAC とブースト技術を持つ Purion XEmax(15MeV)です。パワーデバイスの量産向けに最適化した Purion XE Power Series+ もあります。

RF LINAC ベースのビームラインに多段フィルタリングを組み込んで不純物を取り除き、業界トップクラスの汚染制御を実現しています。Vector 制御システムで水平・垂直の角度をその場で計測・補正し、高いビーム電流と最大 500WPH のスループットを両立します。

主な特長

  • •RF LINAC 方式、シリーズで 40keV〜15MeV
  • •XE(4.5MeV)/EXE(5.25MeV)/VXE(8MeV)/XEmax(15MeV)
  • •多段フィルタリングによる汚染制御
  • •最大 500WPH

主な仕様

区分高エネルギーイオン注入装置
加速方式RFリニアック(LINAC)
特徴広いエネルギーレンジ・金属汚染制御
関連機種Purion XE+ SiC・Purion EXE+ SiC(SiCパワーデバイス向け)(派生機種)
主要用途深いウェル形成などの高エネルギー注入

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目Axcelis TechnologiesPurion XE住友重機械イオンテクノロジーS-UHE/SS-UHE Ⅱ
区分高エネルギーイオン注入装置高エネルギーイオン注入装置
加速方式RFリニアック(LINAC)多段RFリナック
主要用途深いウェル形成などの高エネルギー注入レトログレードウェルなどの深部注入
1機種だけが掲載している項目(3件)
特徴広いエネルギーレンジ・金属汚染制御—
関連機種Purion XE+ SiC・Purion EXE+ SiC(SiCパワーデバイス向け)(派生機種)—
シリーズ構成—S-UHE/SS-UHE Ⅱ/HE3

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •深いウェル形成などの高エネルギー注入
  • •イメージセンサー・パワーデバイス
  • •メモリ・先端ロジック

掲載カテゴリ

Purion XEは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Axcelis Technologies

イオン注入装置の専業メーカー。Purionシリーズで低〜高エネルギーの注入をカバーし、先端ロジック・メモリ・SiCパワー半導体の製造を支える。

Axcelis Technologies の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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