IH（高エネルギーイオン注入装置）

パワーデバイス・SiC デバイス向けの高温／常温対応の高エネルギーイオン注入装置。最大 1,200keV。

IHとは

IH は、アルバックのパワーデバイス・SiC デバイス向けの高エネルギーイオン注入装置です。高温と常温の注入に対応します。

高温と常温を瞬時に切り替えられ、自動で連続して高温注入ができます。1 価イオンで 400keV、2 価で 800keV、3 価で 1,200keV まで対応します。高温ステージと冷却ステージを瞬時に切り替える同社特許のデュアルプラテンや、プレヒート室による加熱時間の短縮で、高いスループットを得ます。

チェーン注入ができ、オペレーターの負荷を減らします。コンパクトな設計で、試作から量産まで幅広く対応します。IH-860PSIC は Φ150mm、IH-1200PSIC は Φ200mm の基板に対応します。

主な特長

•高温／常温を瞬時に切り替え
•最大 1,200keV
•デュアルプラテン（特許）

主な仕様

エネルギー	最大 1,200keV（3 価イオン）
基板サイズ	最大 Φ150（IH-860PSIC）・Φ200（IH-1200PSIC）
イオン種	P・B・Ar・Al・N

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Axcelis TechnologiesPurion XE	住友重機械イオンテクノロジーS-UHE／SS-UHE Ⅱ	ULVAC（アルバック）IH（高エネルギーイオン注入装置）	ULVAC（アルバック）SOPHI-400（高エネルギーイオン注入装置）
区分	高エネルギーイオン注入装置	高エネルギーイオン注入装置	—	—
加速方式	RFリニアック（LINAC）	多段RFリナック	—	—
主要用途	深いウェル形成などの高エネルギー注入	レトログレードウェルなどの深部注入	—	—
エネルギー	—	—	最大 1,200keV（3 価イオン）	最大 1,200keV（1 価で 400kV 加速）
基板サイズ	—	—	最大 Φ150（IH-860PSIC）・Φ200（IH-1200PSIC）	Φ125〜200 mm
イオン種	—	—	P・B・Ar・Al・N	P・H

1機種だけが掲載している項目（3件）

特徴	広いエネルギーレンジ・金属汚染制御	—	—	—
関連機種	Purion XE+ SiC・Purion EXE+ SiC（SiCパワーデバイス向け）（派生機種）	—	—	—
シリーズ構成	—	S-UHE／SS-UHE Ⅱ／HE3	—	—

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。