VF-5300Hとは
VF-5300H は、ジェイテクトサーモシステム（旧 光洋サーモシステム）の量産用ストッカー式縦型炉です。φ150〜200mm のウェーハに対応し、1 回に 75 枚を処理します。
搬送は 5 枚一括と枚葉の搬送ロボットを組み合わせています。ヒーターは二珪化モリブデン（MoSi₂）で、温度範囲は 700〜1,400°C と、シリコン用の一般的な酸化炉より高い温度域を扱えます。
主なプロセスは高温酸化と酸窒化で、機密性の高いチャンバー構造を採用し、SiC ウェーハにも対応しています。SiC パワーデバイスのゲート酸化膜形成のように、高温での酸化が必要な工程に向いた装置です。本体寸法は 900(W)×2,300(D)×3,300(H)mm です。
主な特長
- •量産用ストッカー式縦型炉（75 枚）
- •MoSi₂ ヒーター 700〜1,400°C
- •機密性の高いチャンバー構造、SiC ウェーハ対応
主な仕様
| 方式 | ストッカー式縦型炉（75 枚） |
|---|---|
| 対応ウェハ径 | 150 ～ 200 mm |
| 処理 | 高温酸化・酸窒化 |
| 主要用途 | SiC パワーデバイスのゲート酸化 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 東京エレクトロン（TEL）TELINDY PLUS™ | Kokusai Electric（国際電気）VERTEX Revolution | 光洋サーモシステムVF-5300H |
|---|---|---|---|
| 方式 | バッチ式縦型炉（ホットウォール） | バッチ縦型炉（175 枚の大容量炉オプション） | ストッカー式縦型炉（75 枚） |
| 対応ウェハ径 | 300 mm | 200 mm（150 mm 以下にも対応） | 150 ～ 200 mm |
| 処理 | 酸化・アニール・成膜 | 酸化・拡散・超高温アニール・CVD | 高温酸化・酸窒化 |
| 主要用途 | ゲート酸化膜などの熱酸化 | 200mm ラインの熱酸化・熱処理 | SiC パワーデバイスのゲート酸化 |
1機種だけが掲載している項目（1件）
| 関連機種 | TELINDY PLUS IRad（プラズマ援用）／EVAROS（CO₂ 約 25% 削減） | — | — |
|---|
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •SiC パワーデバイスのゲート酸化
- •高温酸化・酸窒化
掲載カテゴリ
VF-5300Hは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
光洋サーモシステム
ジェイテクトグループの熱処理装置メーカー。半導体向けの縦型拡散炉・横型拡散炉、ランプアニール装置などを供給し、酸化膜形成や不純物拡散、活性化アニールの工程を支える。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06