VF-1000Hとは
VF-1000H は、ジェイテクトサーモシステム（旧 光洋サーモシステム）の研究開発用ミニバッチ縦型炉です。最大 25 枚のウェーハを枚葉搬送で処理し、R&D 向けながら高品位のプロセスを実現します。
ヒーターは二珪化モリブデン（MoSi₂）とカーボンの 2 種類があります。MoSi₂ ヒーター仕様の温度範囲は 700〜1,400°C、カーボンヒーター仕様は 700〜1,850°C で、一般的なシリコン用の拡散炉より高い温度域を扱えます。
MoSi₂ ヒーター仕様の対応ウェーハは φ150mm までで、複数のウェーハサイズに対応します。主なプロセスは高温酸化と酸窒化です。本体寸法は 1,800(W)×1,400(D)×2,300(H)mm です。
主な特長
- •R&D 用ミニバッチ縦型炉（25 枚）
- •MoSi₂ ヒーター 700〜1,400°C／カーボンヒーター 700〜1,850°C
- •複数のウェーハサイズに対応（〜φ150mm）
主な仕様
| 方式 | R&D 用ミニバッチ縦型炉（25 枚） |
|---|---|
| 対応ウェハ径 | ～150 mm |
| 処理 | 高温酸化・酸窒化（MoSi₂ 700〜1,400°C／カーボン 700〜1,850°C） |
| 主要用途 | SiC パワーデバイス |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Kokusai Electric（国際電気）QUIXACE®-II | ASMインターナショナルSONORA® | 光洋サーモシステムVF-1000H |
|---|---|---|---|
| 方式 | ラージバッチ縦型炉 | バッチ縦型炉（デュアルボート） | R&D 用ミニバッチ縦型炉（25 枚） |
| 対応ウェハ径 | 300 mm | 300 mm | ～150 mm |
| 処理 | 酸化・拡散・アニール（成膜にも対応） | ドーパント拡散・活性化・アニール・酸化（常圧）／LPCVD（減圧） | 高温酸化・酸窒化（MoSi₂ 700〜1,400°C／カーボン 700〜1,850°C） |
| 主要用途 | 量産ラインの熱処理 | ロジック・メモリ・アナログ／パワー | SiC パワーデバイス |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •高温酸化・酸窒化の研究開発
- •SiC などワイドバンドギャップ材料の高温熱処理の評価
掲載カテゴリ
VF-1000Hは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
光洋サーモシステム
ジェイテクトグループの熱処理装置メーカー。半導体向けの縦型拡散炉・横型拡散炉、ランプアニール装置などを供給し、酸化膜形成や不純物拡散、活性化アニールの工程を支える。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06