光洋サーモシステム/LPCVD(低圧CVD)

VF-5700

ジェイテクトサーモシステム(旧 光洋サーモシステム)の 300mm 縦型熱処理装置。

VF-5700とは

VF-5700 は、ジェイテクトサーモシステム(旧 光洋サーモシステム)の 300mm ウェーハ対応 ミニバッチ縦型炉です。1 回の処理枚数は最大 50 枚で、25〜50 枚の範囲で選んで処理できます。

酸化・拡散・LP-CVD・アニールなどの熱処理に対応します。高速昇温が可能なハイパワーヒーター(LGO ヒーター)を搭載してスループットを高め、ウェーハを枚葉で高速搬送します。均熱長は 500mm です。

本体寸法は 1,100(W)×2,000(D)×2,950(H)mm と、全高 3,000mm 以下で導入しやすいサイズに抑えられています。ストッカーのスペースを削減する設計で、ストッカーレスでの導入も可能なため関連コストを下げられます。I/O ポートは 2 つで、操作しやすい制御システムを備えます。

主な特長

  • •300mm ミニバッチ(25〜50 枚を選択)
  • •高速昇温のハイパワー LGO ヒーター、均熱長 500mm
  • •枚葉による高速ウェーハ搬送
  • •全高 3,000mm 以下、ストッカーレス導入も可能

主な仕様

方式バッチ縦型炉(50 枚)
対応ウェハ径300 mm
処理酸化・拡散・LP-CVD・アニール
主要用途Si デバイスの熱処理

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目Kokusai Electric(国際電気)AdvancedAce®-IIASMインターナショナルSONORA®光洋サーモシステムVF-5700
方式ラージバッチ縦型炉バッチ縦型炉(デュアルボート)バッチ縦型炉(50 枚)
対応ウェハ径300 mm300 mm300 mm
処理CVD・酸化・拡散・アニールLPCVD(ポリ Si・SiN・SiO)・バッチ ALD・酸化・拡散・アニール酸化・拡散・LP-CVD・アニール
主要用途量産ラインの熱 CVD・熱処理ロジック・メモリ・アナログ/パワーSi デバイスの熱処理

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •酸化・拡散
  • •LP-CVD・アニール

掲載カテゴリ

VF-5700は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

光洋サーモシステム

ジェイテクトグループの熱処理装置メーカー。半導体向けの縦型拡散炉・横型拡散炉、ランプアニール装置などを供給し、酸化膜形成や不純物拡散、活性化アニールの工程を支える。

光洋サーモシステム の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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