東京エレクトロン(TEL)/拡散炉

TELINDY PLUS

東京エレクトロンの300mmウェーハ対応バッチ式熱処理装置。酸化・拡散から成膜まで縦型炉で一括処理する主力プラットフォーム。

TELINDY PLUSとは

TELINDY PLUS は、東京エレクトロン(TEL)の 300mm ウェーハ対応バッチ式熱処理装置です。TELINDY シリーズは累計1万台を超える実績を持ち、クリーンルーム面積あたりの生産性の高さを特長としています。

最大ロードは 125 枚、プロセス温度は室温〜1,100°C です。対応アプリケーションは ALD(SiO₂・SiN・High-k)、CVD(Poly-Si・a-Si・SiO₂・SiN)、酸化・ラジカル酸化、アニールと幅広く、ウェーハ搬送機構の改良、FTPS ヒーター、2ボート運用による短 TAT で生産性を高めています。

同じプラットフォームにプラズマ源を載せた TELINDY PLUS IRad は、プラズマダメージのない極低温 ALD(SiN・SiO₂)向けの派生機です。一度に 200 枚を処理でき CO₂ 排出を約25%減らした EVAROS、高速昇降温の TELFORMULA もシリーズに並びます。

主な特長

  • •最大 125 枚のバッチ処理、プロセス温度 RT〜1,100°C
  • •ALD・CVD・酸化・アニールを1プラットフォームでカバー
  • •2ボート運用・FTPS ヒーターによる短 TAT
  • •TELINDY シリーズ累計1万台超の実績

主な仕様

方式バッチ式(縦型炉)
対応ウェハ径300 mm
最大ロード125 枚
プロセス温度RT ~ 1,100 °C
シリーズ構成TELINDY PLUS/TELINDY PLUS IRad(プラズマALD)/EVAROS
関連機種TELFORMULA・ALPHA-8SE i
主要用途酸化・拡散・バッチ成膜

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目Kokusai Electric(国際電気)QUIXACE-II東京エレクトロン(TEL)TELINDY PLUSASMインターナショナルSONORA
方式縦型大バッチバッチ式(縦型炉)—
生産性従来機比 最大 1.25 倍のロット処理—前世代機 A412 比 最大 30% 向上(レシピ互換)
関連機種AdvancedAce-II・VERTEX Revolution(200 mm)TELFORMULA・ALPHA-8SE i—
主要用途酸化膜・CVD膜の形成酸化・拡散・バッチ成膜—
対応ウェハ径—300 mm300 mm
1機種だけが掲載している項目(7件)
対応プロセス酸化・拡散・アニール(低温/高温)——
最大ロード—125 枚—
プロセス温度—RT ~ 1,100 °C—
シリーズ構成—TELINDY PLUS/TELINDY PLUS IRad(プラズマALD)/EVAROS—
バッチ処理枚数——最大 150 枚
常圧プロセス——拡散・不純物活性化・アニール・酸化
減圧プロセス——LPCVD(Poly-Si・SiN・SiO)/バッチALD

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •ゲート酸化膜などの熱酸化・ラジカル酸化
  • •ポリシリコン・窒化膜のバッチ CVD
  • •SiO₂・SiN・High-k のバッチ ALD

掲載カテゴリ

TELINDY PLUSは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

よくある質問

TELINDY PLUS と TELINDY PLUS IRad の違いは?
IRad は TELINDY PLUS のプラットフォームにプラズマ源を搭載した機種で、プラズマダメージのない極低温の ALD-SiN・ALD-SiO₂ 成膜に使います。最大プロセス温度は TELINDY PLUS が 1,100°C、IRad が 800°C です。

メーカー

東京エレクトロン(TEL)

世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技術を提供。

東京エレクトロン(TEL) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-05
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